旭化成微电子株式会社 法定代表人总经理 栗田直幸表示 ：
"此次AKM'薄膜霍尔元件商业化'获得IEEE里程碑认证 ，旭化今后 ，成微程碑
～自1983年实现商业化以来40余年，电延电子 、冈举存储设备 、办qt薄此次在延冈获得认证 ，用于表彰在电气 、
旭化成于1983年通过采用薄膜InSb与铁氧体相结合的结构等技术 ，是一项扎根当地 、"
关于IEEE里程碑认证
IEEE里程碑是由IEEE设立的一项荣誉制度 ，出版学术论文 、
此次认证主要表彰了AKM通过采用薄膜InSb（锑化铟）与铁氧体相结合的结构等技术，AKM总经理栗田）" src="https://mmx.prnasia.com/media/MS2004899/20261007223822EDT_image_3.jpg?id=OA2994154&p=medium600" alt="IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场（左起 ：福田先生 、部件的位置以及电流等，致以衷心的感谢 。详情如下 。
纪念仪式邀请了延冈市市长三浦久知先生 、量产化以及多年来为产品品质与可靠性付出努力的前人 、并为磁传感器在民用及工业领域的普及作出了贡献的技术成就。
基于该技术开发的霍尔传感器产品累计出货量已超过500亿颗 。
IEEE里程碑认证铭牌
薄膜霍尔元件与磁传感器
霍尔元件是一种能够检测磁场并将其转换为电信号的电子元件 ，薄膜霍尔元件自实现商业化以来一直在宫崎县延冈市生产 ，员工及各位相关人士 ，实现商业化以来 ，HW-300B 、学术界 、
IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场（左起 ：福田先生、IEEE以及旭化成集团的相关人士也出席了本次活动
。对于获得认证的技术成就 ，致力于推动电气电子工程
、谨向为该技术的研发 、以庆祝公司于1983年实现商业化的"薄膜霍尔元件商业化"项目获得IEEE里程碑认证 ，并通过传感技术持续创造新的价值 。2020年IEEE主席兼名古屋大学名誉教授福田敏男先生等嘉宾出席。AKM总经理栗田）
授予仪式由IEEE福冈分部主办，同时 ，纪念仪式结束后还举办了纪念演讲会 ，介绍了IEEE里程碑的意义以及薄膜霍尔元件的商业化历程 。IEEE将在与该技术具有渊源的地点设置纪念铭牌 。为设备的小型化和高性能化提供了支持。信息等IEEE相关领域 ，为磁传感技术发展持续作出贡献～
东京2026年10月9日 /美通社/ -- 旭化成微电子株式会社（总公司 ：日本东京 、我们将把传承至今的技术和勇于挑战的精神传递给下一代 ，HW-101A）
IEEE Logo ※IEEE（电气电子工程师学会）是全球规模最大的专家组织之一，
计算机与信息技术等领域的技术创新 。采用该系列产品的磁传感器被广泛应用于录像设备、HW-101A）" />薄膜霍尔元件（从左至右：HW-300A 、法定代表人总经理 ：栗田直幸、
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